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新型3D芯片问世,性能超2D芯片近一个数量级


2025/12/17 芯片 admin

美国斯坦福大学、卡内基梅隆大学、宾夕法尼亚大学及麻省理工学院工程师,与美国最大纯半导体代工厂SkyWater Technology合作,研发新型多层单片3D计算芯片,标志人工智能硬件重大突破。该成果于第71届IEEE国际电子器件年会(IEDM 2025)发表。

据悉,这款芯片在硬件测试与仿真中,性能比传统2D芯片高出近一个数量级(初步约4倍,未来多层设计最高12倍),尤其在AI工作负载下表现突出。其超薄组件垂直堆叠如摩天大楼楼层,垂直布线如高速电梯,实现创纪录的垂直互连密度,交织存储与计算单元,有效解决2D芯片“内存墙”瓶颈(内存稀疏、传输路径有限)。

斯坦福大学Subhasish Mitra教授(论文主要作者)表示,此创新开启芯片制造新时代,满足未来AI系统1000倍性能提升的需求,为EDP(能量延迟积)提升100-1000倍铺路,实现更高吞吐量与更低能耗。卡内基梅隆大学Tathagata Srimani教授补充,垂直集成大幅提升数据传输速度;宾夕法尼亚大学Robert M. Radway教授强调,紧密集成内存与逻辑可在更小空间实现更高性能。这是美国代工厂首次制造具明确优势的单片3D芯片,奠定本土半导体创新蓝图。


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