荷兰半导体设备巨头ASML近日宣布在极紫外光（EUV）技术上取得重大进展，计划将光源功率从600W提升至1000W。这一升级预计将使晶圆产能提升约50%，而无需额外扩建无尘室或增加整套设备。
根据ASML的最新报告，光源功率提升后，晶圆的每小时扫描产出将从220片增加至330片，且单位产出成本将保持不变。这意味着在现有生产线和空间条件下，仅通过设备升级即可实现显著的产出增长，从而提升晶圆厂的运营效率和资本支出配置。
ASML的技术主管Michael Purvis强调，这一1000W光源系统并非短期实验成果，而是经过严格测试，能够在客户的量产环境中稳定运行的完整解决方案。他指出，该技术已达到实际部署的标准，而不仅仅是实验展示。
在实施策略方面，ASML曾向客户提供“生产力强化套件”（PEP），以便在不更换整机的情况下进行升级。然而，早期的NXE:3400C/D机型因热负载上限面临技术瓶颈，后续才逐步引入更高功率的光源。因此，市场普遍认为此次升级方案将优先针对较新的NXE:3800E系列及High-NA EUV机型EXE:5000与EXE:5200。
